Plateau en graphite cuit sous vide-pour le traitement de la pierre

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Plateau en graphite cuit sous vide-pour le traitement de la pierre
Détails
Le plateau en graphite de frittage sous vide (également connu sous le nom de plateau en graphite, bateau en graphite ou plaque de maintien en graphite) est l'outil de support à haute température - à l'intérieur des fours de frittage sous vide et des fours de frittage sous atmosphère. Il est spécialement développé pour les processus de frittage à haute température sous vide ou atmosphères inertes. Il est utilisé pour contenir des pièces de métallurgie des poudres, des matériaux magnétiques néodyme fer bore, des métaux des terres rares, des pièces de moulage par injection de métal MIM, des alliages durs, des céramiques spéciales, des précurseurs d'électrodes négatives de batterie au lithium, etc. Il peut résister à des températures élevées cycliques à long terme allant de 1 000 à 2 200 degrés Celsius, réduisant ainsi la déformation et la contamination de la pièce et améliorant le rendement de frittage.
Classification des produits
Moule en graphite
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Description
Powder Metallurgy Sintering Graphite Mold

| De quel matériel est-ce fait?
1. Matériau de base principal : particules fines / graphite artificiel isostatique de haute-pureté (graphite artificiel isostatique de haute-pureté)
Carbone fixe Supérieur ou égal à 99,90 %, teneur en cendres aussi faible que 50 - 200 ppm ; Il est divisé en 3 qualités de matériaux : graphite moulé ordinaire, graphite isostatique à particules moyennes-, graphite isostatique à particules ultra-de haute-pureté ;
2. Sélectionnez en fonction des conditions de travail du client :
Métallurgie générale des poudres, traitement thermique : graphite moulé haute-densité ;

 

Paramètres de performance de base
Les paramètres peuvent être ajustés en fonction de la sélection du client et répondent pleinement aux exigences des conditions de frittage sous vide industriel. Le tableau des paramètres peut être exporté en anglais pour être utilisé sur les pages produits.
| Article|Qualité industrielle générale|Qualité de pressage isostatique de haute-pureté (pour terres rares/néodyme-fer-bore)|| ----|----|---- |
| Densité volumique|Supérieur ou égal à 1,72 g/cm³|Supérieur ou égal à 1.78 - 1.85 g/cm³ |
| Résistance à la flexion|Supérieur ou égal à 18 MPa|Supérieur ou égal à 22 - 30 MPa |
| Coefficient de dilatation thermique|2,4×10⁻⁶/degré|1.8 - 2.1×10⁻⁶/degré |
| Contenu en cendres|Inférieur ou égal à 0,1%|Inférieur ou égal à 0,02% |
| Température de fonctionnement maximale|2200 degrés dans un environnement sous vide|2200 degrés dans un environnement sous vide |
| Taille des particules|10 - 25 μm|5 - 10 μm (grains ultrafins) |
✅ Les performances répondent aux exigences : elles peuvent être adaptées à la qualité de matériau correspondante en fonction de la température du four, de la charge et des conditions atmosphériques du client, évitant ainsi les fissures, les déformations et les pertes de poudre susceptibles de contaminer la pièce.

New Energy Graphite Molds

 

Aluminum Die Casting Mold
Scénarios applicables|Que cela soit adapté à vos conditions (scénarios d'application)


✅ Convient aux processus et industries suivants :
1. Frittage sous vide à aimant permanent en néodyme fer bore et traitement thermique à haute température après électrolyse de sel fondu de métaux de terres rares ;
2. Métallurgie des poudres, frittage sous vide de pièces de moulage par injection de métal MIM ;
3. Outils en carbure cémenté, tungstène-métaux réfractaires au molybdène à haute-frittage à température ;
4. Céramique spéciale, alumine, frittage en atmosphère de céramique de nitrure de silicium ;
5. Matériaux de batterie au lithium, brasage à haute température-, traitement thermique sous vide, processus de recuit ;
6. Compatible : fours de frittage sous vide intermittents, fours à atmosphère continue, fours à cloche.

 

Prend entièrement en charge la personnalisation OEM et ODM
 
High Density Graphite Crucible For Aluminum Gold Silver Melting
Peut recevoir des dessins, des échantillons et des croquis de taille STEP/DXF/DWG ;
Graphite Heating Elements for Semiconductors
Personnalisable : dimensions de la forme, épaisseur, fentes, évidements, positionnement des emplacements pour cartes, fermoirs empilables, trous de réduction de poids ;
Graphite Heating Elements for Semiconductors
Les options de matériaux incluent le graphite ordinaire/le graphite pressé isostatique de moyenne-haute pureté/ultra-graphite pressé ; il peut également subir un traitement de revêtement anti-anti-oxydation.
Graphite Heating Elements for Semiconductors
La structure peut être optimisée en fonction de l'espace interne du four du client, de la-capacité portante d'un seul disque et de la disposition de chargement,

 

Aide FAQ
Problème courant
  • Q1 : Quelle est la limite de l’environnement de travail ?

    Doit fonctionner sous vide ou sous gaz inerte, pas dans un environnement atmosphérique de longue durée au-dessus de 600 degrés.

  • Graphite Heating Elements for Semiconductors

    Q2 : Pouvez-vous faire selon mon dessin ?

    R : Oui, OEM ODM personnalisé à partir d’un dessin ou d’un échantillon STEP/DXF/DWG.

  • Q3 : Quel certificat ou rapport de test pouvez-vous fournir ?

    Rapport d'essai en usine, rapport d'inspection interne, rapport d'essai tiers basé sur les normes ASTM.

 

Capacité de production et expérience d’exportation

1. Équipement : plusieurs centres de traitement du graphite CNC à grande-échelle, des machines de gravure de précision, des équipements de sciage et de meulage, capables de traiter des plateaux en graphite de grande-taille et à structure complexe- ; propre atelier de criblage et de prétraitement des matières premières- ;
2. Capacité de production : production mensuelle de centaines d'ensembles de divers plateaux/bateaux en graphite frittés sous vide, couvrant à la fois les grands et les petits articles, capables de traiter des commandes de gros-volume, prenant également en charge de petits-commandes de recherche par lots ;
3. Délai de livraison : Prototype 7-15 jours ouvrables ; commandes par lots régulières 15-25 jours ouvrables ; les commandes urgentes peuvent être coordonnées pour la planification de la production ;
 

  • 5K +
    Projets terminés
    5k de travail complet
  • 30 +
    Notre expert
    Expert en graphite
Graphite Ingot Mold
Graphite Susceptor/Tray Semiconductor Grade Graphite

 

Cas de réussite

Structure : palette plate, bateau en graphite avec protection des bords, plateau avec fente de positionnement, plateau empilé multi-couches, plateau creux léger ;

  • Graphite Susceptor/Tray
    Entreprise française de semi-conducteurs
    l
  • Graphite Susceptor/Tray
    Accessoires en graphite pour four sous vide américain
  • Semiconductor Grade Graphite
    Disque support de plaquette semi-conducteur coréen
  • Semiconductor Grade Graphite
    Accessoires en graphite pour l'industrie du vide en Australie

 

 

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