Support de plaquette de graphite
Jincheng Graphite, en tant que fabricant professionnel de supports en graphite pour tranches, fournit des supports en graphite pour tranches de haute-pureté et haute-stabilité. Il est spécialement conçu pour les processus à haute-température dans la fabrication de semi-conducteurs, offrant une excellente uniformité thermique, une résistance à la corrosion et une longue durée de vie. Il est largement utilisé dans les domaines de précision tels que le traitement des plaquettes et la lithographie.
Points forts
Substrat en graphite à l'échelle nano-
Grâce à un procédé de graphite de haute pureté (avec une teneur en carbone supérieure ou égale à 99,99 %) et de composite métallique, la conductivité thermique atteint jusqu'à 300 W/m·K, garantissant une température uniforme sur la surface de la tranche et réduisant le risque de déformation causée par les contraintes thermiques.
Compatibilité avec l'environnement sous vide
Tolérant une plage de températures extrêmes de -200 degrés à 3 000 degrés, adapté aux processus sous vide tels que la lithographie et la gravure, et possédant une excellente résistance à la corrosion, compatible avec les gaz chimiques tels que l'hydrogène et l'azote.
Adaptabilité personnalisée
Prend en charge différentes tailles de tranches (telles que 12 pouces et 8 pouces) et des processus de traitement de surface spéciaux, répondant à des exigences précises pour différents scénarios de fabrication de semi-conducteurs.
Scénario d'application
Processus de lithographie sur plaquette
Lors de l'application de la résine photosensible, le support en graphite fournit un environnement de distribution thermique stable, réduisant ainsi les problèmes de déformation de la tranche provoqués par les différences de température.
Équipement de gravure à haute-température
Lors de la gravure au plasma, la conductivité thermique élevée du support peut rapidement disperser la chaleur, protégeant ainsi la surface de la tranche des dommages causés par les températures élevées.
Système de dépôt sous vide
Compatible avec les processus CVD, PVD et autres, garantissant que la plaquette conserve sa planéité lors du dépôt à haute température-et améliorant le taux de rendement.
Spécifications techniques
| Conductivité thermique | 250 - 400 W/m·K (personnalisable) |
| Plage de température de fonctionnement | -200 degrés à 3000 degrés |
| Gaz compatibles | Hydrogène, azote, argon, etc. (gaz de procédés semi-conducteurs) |
| Traitement de surface | Polissage/revêtement plasma (facultatif) |
Assurance technologique du graphite Jincheng
Basé sur 20 ans d'expérience en recherche et développement de matériaux en graphite, Jincheng Graphite adopte une technologie brevetée de composite sous vide et une technologie de remplissage en graphite de qualité nanométrique pour garantir la stabilité à long terme du support dans des conditions extrêmes. Le produit a passé la certification du système qualité ISO 9001 et les normes aérospatiales AS9100, répondant aux exigences strictes de la fabrication de semi-conducteurs pour la gestion thermique.
Engagement de coopération
Jincheng Graphite propose un service personnalisé-de processus complet depuis la conception, la production jusqu'au-après-vente, prenant en charge la production d'essais en petits-par lots et la personnalisation à grande-échelle, garantissant un cycle de livraison court et des coûts contrôlables. Grâce à son réseau logistique mondial et à ses équipes de service locales, elle fournit à ses clients des solutions de support de tranches de graphite efficaces et fiables, contribuant ainsi à moderniser les processus de fabrication de semi-conducteurs.
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